一种响应面优化制备质子交换膜的方法

摘要

本发明属于质子交换膜制备方法的技术领域，涉及一种响应面优化制备质子交换膜的方法。本发明以含液晶性能的铸膜液质量分数、提拉速度以及烘干温度为影响因素进行单因素提取试验，确定含液晶性能的铸膜液质量分数、提拉速度以及烘干温度对质子交换膜膜厚的有影响，设计响应面法试验，确定制备质子交换膜的最佳工艺条件为含液晶性能的铸膜液质量分数2.08%，提拉速度82.23 mm/min，烘干温度60.30℃，在此条件下得到质子交换膜厚度三次实测平均值为33±1μm。发明中制备出质子交换膜具有较高的质子传导率，为解决质子交换膜提高质子传导率的问题提供了方法。

申请人共 1 家

• 1.江苏深储新材料有限公司

IPC 分类号共 10 项