发明专利审查中共性支撑与服务
用于氢能安全传感薄膜制备的多环磁控溅射靶结构
CN121428495A 申请号 CN202511709119.0
公开号:CN121428495A申请号:CN202511709119.0申请日:2025-11-20公开日:2026-01-30公开年:2025IPC 分区:FMZL产业链环节:共性支撑与服务视图:氢能核心
摘要
本发明公开了一种用于氢能安全传感薄膜制备的多环磁控溅射靶结构,包括圆盘状极靴,极靴上方同轴设有双环环状外磁轭,外磁轭与极靴之间均匀分布若干外磁铁;极靴中心设有内磁铁,其上方设有内磁轭。本发明针对氢气传感薄膜在制备过程中膜层厚度不均、灵敏度不足和响应速度慢的缺陷,提出了一种多环磁场优化设计,根本解决了因磁场分布不均匀、靶材利用率低及散热性能差所带来的问题。
申请人共 1 家
- 1.新疆大学
IPC 分类号共 3 项
C23C14/35(2006.01)G01N33/00(2006.01)G01N27/00(2006.01)
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